晶片業耗能高！傳台積電將關閉部分EUV機台

「極紫外光微影系統」（EUVs）是用來製造全球最先進半導體的機器，透過人眼不可見的光波照射矽晶圓，把圖樣刻進晶圓表面的材料，精確度須在幾奈米之內。

媒體報導，因個人電腦（PC）、手機、顯示卡等消費性電子產品需求衰退，先進製程產能利用率下滑的情形可能持續一段時間，台積電計劃從今年底開始關閉部分EUV機台。

台積電作為全球最大的外包晶片供應商，也是極紫外光微影系統的第一大買主，目前擁有80台EUV機台，用於生產7奈米、5奈米先進製程晶片，9月也開始用於3奈米製程。

美系外資發布研究報告分析，隨著智慧型手機與高效能運算更多客戶砍單，加上庫存去化持續、需求減弱的情形擴及資料中心市場，台積電明年營運恐放緩，預估明年以美元計算營收將年增5%、每股盈餘將年減8%，資本支出將下調至360億美元（約新台幣1.1兆元）。

美系外資指出，台積電7奈米和6奈米製程產能利用率目前已低於95%，由於需求轉弱、智慧型手機與高效能運算晶片陸續轉移到5奈米製程生產，明年7奈製程產能利用率可能跌破90%。

不過，美系外資對台積電先進技術的規劃仍有信心，加上高效能運算應用貢獻增加，看好台積電未來3到5年表現將優於同業，維持「加碼」投資評等。

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EUVs耗能增10倍！台積電投入綠色機台開發

台積電曾指出，EUV技術的應用是半導體製程成功演進到5奈米以下的關鍵，但每台機器耗電量約為1百萬瓦特，是傳統深紫外光微影（DUV）機台的10倍以上。由於沒有其他替代方案可用來製造最先進的半導體，晶片業可能會是全球減少碳排放量的大型絆腳石之一。

先前，彭博（Bloomberg）報導曾指出，極紫外光微影系統需要大量電力才能運作，2020年台積電消耗能源占台灣整體耗能6%左右，預計到了2025年將占12.5%。

隨著先進製程不斷演進及積體電路製程日益複雜，用電量同步增加，台積電不僅積極購買再生能源，同時投入資源開發綠色機台。

台積電去年設立全台第一座EUV光阻生產工廠，截至今年4月已產出超過千瓶EUV光阻劑，創造逾新台幣1億元商業價值，年產值將超過10億元，同時達到資產活化再利用效益。

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本文轉載自2022.09.06「中央社」，僅反映作者意見，不代表本社立場。